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            設備簡介:

            廠商:中國電子科技集團

            型號:Peva-600I

             

            技術指標:

            1.可加工橫向尺寸4英寸及以下的wafer;

            2.一次加工2-6wafer(視wafer尺寸大?。?,

            3.由于鍍液是酸性的,樣品需要耐酸性溶液,鍍100微米需要4小時左右。

             

            工藝特點:

            設備簡單、花費低、屬低溫工藝。

               

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